zobrazit předchozí rok (2010/2011), další rok (2012/2013)
POZOR! Neprohlížíte aktuálně vyhlášená témata.
Katedra fyziky povrchů a plazmatu vypisuje pro školní rok
2011/2012 následující témata bakalářských prací.
Zájemce prosíme, aby se zapisovali v sekretariátu KFPP ve 2. patře KO Troja.
Vedoucí:
Doc. RNDr. Václav Nehasil, Dr. - A134, A141, tel. 2776, 2751
Anotace:
Adsorpce plynů na povrchu pevné látky je prvním krokem heterogenní katalýzy (reakce, kdy katalyzátor je v jiné fázi než reagující složky). V minulosti vzniklo a dosud stále vzniká mnoho teoretických i experimentálních prací, aby byl mechanizmus adsorpce vysvětlen. Získané poznatky jsou v praxi využívány při přípravě reálných katalyzátorů, které nacházejí uplatnění například v chemickém a automobilovém průmyslu.
Jako katalyzátory jsou nejčastěji používány přechodové kovy nesené na podložce tvořené oxidem jiného kovu. Reakce probíhá většinou na povrchu částic aktivního kovu. Podložka, která částice nese, může být buď inertní (neovlivňuje sama reakci – např. Al2O3) nebo aktivní (svým chováním reakci podporuje – například uvolňuje kyslík, který potom zvyšuje produktivitu katalytické oxidace plynů (např. CeO2 – široce používaný v automobilových katalyzátorech). Podložka může ovšem i reakci zpomalovat případně úplně zastavit, například tak, že materiál podložky difunduje na povrch aktivního kovu a tím zamezí přístupu reaktantů k němu.
Tento efekt jsem pozorovali na speciálně připravených vrstvách Rh/TiO2 a některé experimenty naznačovaly, že by k němu mohlo docházet i na jiných podložkách, které v naší laboratoři studujeme. Proto bude v rámci bakalářské práce zkoumáno složení první vrstvy modelových katalyzátorů metodou ISS a sledována případná enkapsulace (zakrývání materiálem podložky) deponovaných kovových částic, které tvoří aktivní část katalyzátoru. Budou též měřena fotoelektronová spektra (metodou XPS) a vyhodnocován chemický stav podložky i deponovaného kovu.
Práce bude souviset s výzkumem aktuálně prováděném v laboratoři, konkrétní výběr materiálů bude proto proveden až na začátku práce, aby pokud možno navázal na dosažené výsledky nebo vyzkoušel kombinaci materiálů, která bude vypadat perspektivně pro další výzkum.
V literatuře doporučené k bakalářské práci jsou uvedeny i tři bakalářské práce, které v laboratoři vznikly a které mohou posloužit jako ukázka problémů, které studujeme.

Zásady pro vypracování:
1) Teoretická část: Seznámit se s přípravou aktivních povrchů – napařování kovových vrstev ve vakuu a jejich charakteristikou - určení složení připravené vrstvy metodou Rentgenové fotoelektronové spektroskopie (XPS) a Spektroskopie rozptýlených iontů (ISS). Seznámit se s metodami studia adsorpce plynů metodou Molekulárních svazků (MB) a Termodesorpční spektroskopie (TDS).
2) Praktická část: Připravit nespojité kovové vrstvy skládající se z vybraného kovu deponovaného na oxidické podložce a charakterizovat ji metodami fyziky povrchů –XPS a ISS (množství deponovaného kovu a jeho chemický stav, složení první povrchové vrstvy). Provést adsorpce vybraného plynu (CO, O2) a sledovat metodami TDS a MB změny adsorpčních vlastností povrchu s časem a jako důsledek provedených procedur (ohřev, interakce s plyny).
3) Zpracování: Získané výsledky interpretovat a sepsat ve formě bakalářské práce.
Literatura
1) L. Eckertová a kol., Fyzikální elektronika pevných látek, Univerzita Karlova, Praha, 1992.
2) Ch. Kleint, K.-D. Brzoszka, Čs. čas. fyz. A 25 (1975) 345.
3) D. Briggs and M. P. Seah, Practical Surface Analysis, John Willey and Sons, Chichester, England, 1990.
4) Tatiana Zahoranová, Studium růstu bimetalických vrstev metodou XPS, bakalářská práce, KFPP MFF UK Praha, 2007.
5) Klára Ševčíková, Adsorpce molekul plynů na bimetalických systémech, Bakalářská práce, KFPP MFF UK Praha, 2008.
6) Miroslav Kettner, Studium interakce molekul plynů s aktivními povrchy, bakalářská práce, KFPP, MFF UK Praha, 2011.
Vedoucí:
RNDr. Josef Mysliveček, Ph.D. - A133, tel. 2333
Konzultant:
Prof. RNDr. Vladimír Matolín, DrSc. - A124, A132, A346, tel. 2323, 27432, 2734, 2252
Anotace:
Díky grafénu zažívá současná fyzika vlnu nadšení z možnosti prozkoumávat vlastnosti a použití této v podstatě nové formy hmoty [1]. Jedna z možných aplikací grafénu v oblasti nanotechnologie je možnost použít grafén na kovovém substrátu jako matrici pro růst uspořádaných nanometrových klastrů [2].
Cílem vypisované bakalářské práce je realizovat přípravu grafénu na povrchu Ru [3] nebo Cu [4] v labotratoři fyziky povrchů KFPP. Vrstva grafénu bude následně charakterizována metodou rastrovací tunelové mikroskopie (STM), která umožňuje studium morfologie povrchů pevných látek až s atomárním rozlišením [5,6].
Cíle práce:
1) Seznámení se s experimentální metodou STM.
2) Seznámení se s technikou ultravysokého vakua (UHV).
3) Příprava čistého povrchu Ru(0001) a/nebo Cu(111), expozice C2H4, žíhání vzorku.
4) Měření morfologie a pokrytí grafénu na Ru(0001) a/nebo Cu(111).
5) Vyhodnocení a prezentace získaných dat.
Bakalářská práce bude prováděna na aparatuře, která umožňuje studium vzorků pomocí STM a integrálních povrchových technik (adsorpce, desorpce, hmotnostní spektroskopie). Práce je základem pro výzkumný projekt, v rámci kterého bude vyhodnocován vliv uhlíku na chemickou reaktivitu oxidových nanočástic v souvislosti s vývojem moderních heterogenních katalyzátorů pro energetické aplikace (palivová konverze, palivové články).
Literatura:
[1] http://nobelprize.org/nobel_prizes/physics/laureates/2010/
[2] „A versatile fabrication method for cluster superlattices“, A.T. N’Diaye, T. Gerber, C. Busse, J. Mysliveček, J. Coraux and T. Michely, New Journal of Physics 11 (2009) 103045.
[3] „Growth mechanism of Graphene on Ru(0001) and O2 Adsorption on the Graphene/ Ru(0001) Surface“, H. Zhang, Q. Fu, Y. Cui, D. Tan, and X. Bao, J. Phys. Chem. C 113 (2009), 8296.
[4] „Epitaxial Graphene on Cu(111)“, L. Gao, J.R. Guest, and N.P. Guisinger, Nano Letters, 10 (2010), 3512.
[5] C.J. Chen, Introduction to Scanning Tunneling Microscopy (Oxford University Press, 2007).
[6] F. Dvořák, Diplomová práce, KFPP MFF UK, 2010.
Vedoucí:
RNDr. Viktor Johánek, Ph.D. - A133, tel. 2333
Konzultant:
Prof. RNDr. Vladimír Matolín, DrSc. - A124, A132, A346, tel. 2323, 27432, 2734, 2252
Anotace:
Ve skupině fyziky povrchů se v současné době řeší řada témat spojených především s heterogenní katalýzou na modelových systémech, např. kovových monokrystalech, tenkých vrstvách kovů nebo oxidů (vakuově napařovaných nebo magnetoronově napařovaných), nesených nanoklastrech, slitinách apod. Stávající přístrojové vybavení skupiny umožňuje detailní mikroskopickou i spektroskopickou analýzu vzorků jak v oboru velmi vysokého vakua, tak i za reálných podmínek vysokého tlaku. K těmto zařízením přibyde v letošním roce (2011) metoda infračervené reflexně-absorpční spektroskopie (RAIRS), která v reálném čase (např. přímo v průběhu chemické reakce na povrchu katalyzátoru) poskytuje přímou informaci o stavu zkoumaného povrchu, např. o typu, koncentraci, orientaci, poloze a vzájemné interakci adsorbovaných molekul.
Navrhovaná bakalářská práce bude prováděna na novém špičkovém IR spektrometru (od firmy Bruker) s využitím interní vakuové komory a automatizovaného ohřevu vzorků a řízeného napouštění čistých plynů. Řešitel se zapojí do spolupráce na některém z aktuálních témat skupiny fyziky povrchů, u nichž v současné době dostupné metody neposkytují dostatek informace k interpretaci adsorpčních a chemických jevů, ke kterým dochází na površích zkoumaných katalyzátorů.
Pořízení IR spektrometru je součástí většího projektu, během něhož bude vybudována ultravakuová komora ke studiu materiálů metodou molekulárních svazků, vybavená kromě RAIRS metodami hmotové spektrometrie (QMS), fotoelektronové spektroskopie (XPS), termodesorpční spetroskopie (TDS) a elektronové difrakce (LEED). Uchazeč bude mít možnost účastnit se na pokračování tohoto projektu v rámci své diplomové práce.


Zásady pro vypracování:
1. Seznámení se s experimentální metodou RAIRS (infračervené reflexně-absorpční spektroskopie) a se spektrometrem Bruker Vertex 70v, studium související literatury.
2. Účast na zprovoznění a kalibraci spektrometru.
3. Účast na přípravě vzorků s definovanou strukturou.
4. Studium interakce připravených vzorků s vybranými plyny a jejich vzájemných reakcí.
5. Zpracování experimentálních dat.
Literatura:
[1] Y. J. Chabal, Surface Infrared Spectroscopy, Surface Science Reports 8 (1988) 211-357.
[2] P. Hollins, The influence of surface defects on the infrared spectra of adsorbed species, Surface Science Reports 16 (1992) 51-94.
[3] M. Trenary, Reflection Absorption Infrared Spectroscopy and the Structure of Molecular Adsorbates on Metal Surfaces, Annu. Rev. Phys. Chem. 51 (2000) 381–403.
[4] F.A. White and G.M. Wood, Mass Spectroscopy, Applications and Engineering, John Wiley & Sons, 1986.
[5] J. W. Niemantsverdriet, Spectroscopy in Catalysis: An Introduction, John Wiley & Sons, 2000.
Vedoucí:
RNDr. Viktor Johánek, Ph.D. - A133, tel. 2333
Konzultant:
Prof. RNDr. Vladimír Matolín, DrSc. - A124, A132, A346, tel. 2323, 27432, 2734, 2252,
RNDr. Josef Mysliveček, Ph.D. - A133, tel. 2333
Anotace:
Heterogenní katalyzátory založené na oxidu céru (ať už čistém, nebo dopovaném kovem) se ukazují jako velmi účinné pro použití v palivových článcích díky své schopnosti katalyzovat rozklad uhlovodíků (např. metanolu nebo etanolu) v procesu přímé konverze na elektrickou energii (tzv. DMFC, direct methanol fuel cell). Reaktivita a selektivita takového katalyzátoru závisí nejen na chemickém složení svrchní vrstvy, ale i na její fyzické a elektronické struktuře. Pomocí změny orientace povrchu, koncentrace defektů nebo způsobu dotování kovovými prvky lze zásadně ovlivnit výsledné vlastnosti katalyzátoru a optimalizovat ho tím pro různé chemické reakce. K tomu je ovšem nutná dobrá znalost jevů, ke kterým dochází na površích katalyzátorů při interakci s molekulami plynů.
Navrhovaná bakalářská práce bude prováděna na ultravakuové vícekomorové aparatuře, kombinující metody STM (rastrovací tunelová mikroskopie, tj. studium morfologie a elektronické struktury), TDS (termodesorpční spektroskopie, tj. studium reaktivity), LEED (elektronová difrakce, tj. studium uspořádání povrchu) a několika zařízení pro čištění a definovanou přípravu vzorků.
Těžiště práce bude spočívat v aplikaci metody TDS k přímému měření interakce metanolu a případně dalších uhlovodíků s povrchy vzorků CeO2/Cu a CeO2/Ru, a to jak čistých, tak v kombinaci se vzácnými kovy (Pt, Rh, Au, Pd, …) ve formě nesených nanoklastrů nebo atomárně rozptýleného dopantu. Výsledky experimentů budou analyzovány a interpretovány na základě znalostí, získaných jinými členy našeho týmu pomocí STM v téže aparatuře i pomocí dalších analytických metod používaných v naší skupině.
Studium reaktivity bude v brzké budoucnosti posíleno o zcela novou aparaturu kombinující metody fotoelektronové spektroskopie (XPS; chemická a částečně strukturní analýza), infračervené absorpční spektroskopie (IRAS; informace o povrchových vazbách) a TDS se sofistikovaným zdrojem molekulárních svazků, jejíž konstrukce a následné využití k experimentům by mohly být tématem případné navazující diplomové práci uchazeče.


Zásady pro vypracování:
1. Seznámení se s experimentální metodou TDS (termodesorpční spektroskopie) a studium související literatury.
2. Kontrolní kalibrace kvadrupólového desorpčního spektrometru.
3. Příprava vzorků CeO2/Cu(111) a/nebo CeO2/Ru(0001) s definovanou strukturou.
4. Depozice kovových klastrů na připravené povrchy CeO2.
5. Expozice připravených vzorků plyny a měření jejich katalytické aktivity metodou TDS.
6. Zpracování experimentálních dat.
Literatura:
[1] V. Matolín et. al, Methanol adsorption on a CeO2/Cu(111) thin film model catalyst, Surf. Sci. 603 (2009) 1087.
[2] F. Šutara et al., Epitaxial growth of continuous CeO2(111) ultra-thin films on Cu(111), Thin Solid Films 516 (2008) 6120.
[3] D. R. Mullins, M. D. Robbins, J. Zhou, Adsorption and reaction of methanol on thin-film cerium oxide, Surf. Sci. 600 (2006) 1547.
[4] F.A. White and G.M. Wood, Mass Spectroscopy, Applications and Engineering, John Wiley & Sons, 1986.
[5] J. W. Niemantsverdriet, Spectroscopy in Catalysis: An Introduction, John Wiley & Sons, 2000.
Vedoucí:
Doc. RNDr. Ivan Ošťádal, CSc. - A325, A327, A332, tel. 2336, 2342, 2346
Anotace:
Rekonstruované povrchy křemíku s různou symetrií jsou využívány jako předloha pro samoorganizovaný růst uspořádaných 0-D, 1-D a 2-D nanostruktur. Morfologii povrchu monokrystalického křemíku lze v podmínkách UHV měnit pomocí iontového bombardu a následného žíhání. Téma práce vychází z experimentálního spojení iontového děla, rastrovacího tunelového mikroskopu (STM) a zdrojů pro depozici kovů v jedné komoře. Dané uspořádání spolu s přenosem vzorků pomocí manipulátorů dovoluje přípravu povrchů, měření, depozici a měření in-situ. Práce je zaměřena na studium vlivu parametrů iontového svazku a podmínek odprašování na morfologii povrchu křemíku a její stabilizaci procesem žíhání.
Cíle bakalářské práce:
• Seznámení s technikou bombardování povrchu ionty argonu a konstrukcí iontového děla.
• Zvládnutí experimentálních technik STM pro studium povrchových struktur v podmínkách ultravakua.
• Příprava povrchu Si(111)7×7 resp. Si(100)2×1 a jeho analýza pomocí STM.
• Studium a charakterizace modifikovaných povrchů pomocí STM – vliv energie, proudu a sklonu svazku iontů.
• Studium vlivu žíhání na morfologii modifikovaného vzorku.
Práce je součástí programu zaměřeného na studium růstu uspořádaných struktur kovů na površích křemíku pomocí STM experimentů. Téma může být dále rozvinuto v rámci magisterského studia. Podrobnější informace osobně.
![]() |
![]() |
| Si(111) 7×7 | Si(100) 2×1 |

Literatura:
[1] Metody analýzy povrchů: iontové, sondové a speciální metody. Editoři: L. Frank, J. Král, Academia, Praha 2002.
[2] Bai Ch., Scanning Tunneling Microscopy and its Application, Springer Series in Surf.Sci. 32, Springer Verlag, Berlin, Heidelberg, N.Y., 1992.
[3] Články v odborných časopisech doporučené vedoucím práce.
Vedoucí:
Doc. RNDr. Ivan Ošťádal, CSc. - A325, A327, A332, tel. 2336, 2342, 2346
Anotace:
Technika rastrovací tunelové mikroskopie (STM) umožňuje zobrazení povrchu pevné látky s atomárním rozlišením. Opakované zobrazování oblasti povrchu umožňuje přímé sledování povrchových procesů, jejichž frekvence výskytu je menší než rychlost snímání. Rychlost tepelně aktivovaných procesů lze ovlivnit teplotou povrchu, současně však může dojít k utlumení některých důležitých interakcí. Proud tunelujících elektronů, který slouží jako citlivá sonda při zobrazení v STM, obsahuje komplexní informaci. Změny elektronové struktury nebo dokonce atomárních pozic doprovázející povrchové procesy v daném místě na povrchu se projeví v časovém průběhu tunelového proudu. Takto lze studovat dynamiku procesů, které jsou rychlejší než samotný pohyb sondy v STM. Pomocí dvojúrovňových fluktuací proudu, které indikují průchod atomu pod hrotem lze studovat náhodné přeskoky adsorbovaných atomů uzavřených v oblasti povrchu, či mezi dvěma sousedními adsorpčními pozicemi. Tato „time spectroscopy“ dovoluje studium i složitějších povrchových procesů. Lze ji využít při kvantitativním vyhodnocení vlivu hrotu na povrchové procesy a při studiu podmínek pro řízenou manipulaci atomů na povrchu.
Cíle bakalářské práce:
• zvládnutí techniky STM a zobrazování povrchu s atomárním rozlišením,
• seznámení s technikou sběru dat a záznamem tunelového proudu
• zvládnutí základních metod pro zpracování a analýzu časových řad,
• provedení měření na jednoduchých systémech: adatomy kovu na Si (111)×7×7 resp. Si(100) (podle experimentálních možností i za různých teplot),
• analýza měření a vyhodnocení vlivu hrotu.
Téma práce je součástí vědecké práce ve skupině tenkých vrstev zaměřené na studium adsorpce a povrchových procesů při růstu nanostruktur kovů na orientovaných površích křemíku. Pro experimenty jsou využívány dvě ultravakuové komory se zařízeními STM. Práce se dotýká řady aktuálních problému rozvoje současné metodiky měření pomocí STM a představuje úvodní krok k experimentálnímu ověření teoreticky získaných hodnot vazebních energií. Takto bude zaměřeno i případné pokračování tématu v rámci diplomové práce.

Literatura:
[1] Bai Ch., Scanning Tunneling Microscopy and its Application, Springer Series in Surf.Sci. 32, Springer Verlag, Berlin, Heidelberg, N.Y., 1992.
[2] Metody analýzy povrchů: iontové, sondové a speciální metody. Editoři: L. Frank, J. Král, Academia, Praha 2002.
[3] Články v odborných časopisech doporučené vedoucím práce.
Vedoucí:
RNDr. Pavel Kocán, Ph.D. - A330, A327, A332, tel. 2349, 2342, 2346
Anotace:
Zásady pro vypracování
1) Seznámení se s metodou Monte Carlo a problematikou desorpce z orientovaných povrchů.
2) Vývoj počítačového kódu pro simulaci desorpčních procesů.
3) Aplikace modelu na případ strukturních změn při desorpci thallia z povrchu Si(111).
Seznam odborné literatury
[1] Eckertová L.: Physics of Thin Films, Plenum Press, NY 1986.
[2] Kotrla M.: Comp. Phys. Communication 97, 82 (1996).
[3] Články v odborných časopisech podle doporučení vedoucího práce.
Předběžná náplň práce:
Povrchy krystalu s deponovanými tenkými vrstvami jsou výchozím bodem budoucích elektronických prvků. Řada strukturních změn na těchto površích je ovlivněna nebo přímo řízena termální desorpcí atomů z povrchu. V různých strukturách mohou mít atomy různou vazebnou energii, tyto energie určují dynamiku povrchu.
Cílem práce bude navrhnout a naprogramovat jednoduchý (toy) model pro první odhady vlivu desorpčních procesů na vznik povrchových struktur. Hlavní technikou bude kinetické Monte Carlo, založené na náhodných procesech.
Pro testování modelu budou použita data získaná na pracovišti pomocí řádkovacího tunelového mikroskopu (STM). Výsledky práce budou přímo publikovatelné, na práci je možné navázat prací diplomovou.

Vedoucí:
RNDr. František Němec, Ph.D. - A243, tel. 2330
Anotace:
Kvaziperiodické emise jsou elektromagnetické emise tvořené řadou po sobě jdoucích téměř pravidelně se opakujících elementů. Jejich vlastnosti a způsob generování stále zůstávají otevřeným problémem. Náplní práce je systematická analýza událostí tohoto typu s využitím družic DEMETER a Cluster. Výsledky budou využity k určení zdrojové oblasti těchto emisí a k objasnění mechanismu jejich vzniku. Téma může být dále rozvinuto v rámci magisterského studia. Podrobnější informace osobně.

Cíle bakalářské práce:
1. Seznámení se s družicemi DEMETER a Cluster, zvládnutí základní práce s daty.
2. Nalezení časových intervalů odpovídajících kvaziperiodickým emisím.
3. Statistické zpracování nalezených událostí a určení jejich vlastností.
4. Analýza nízkofrekvenčních magnetických fluktuací detekovaných ve stejnou dobu.
Seznam odborné literatury:
[1] Gurnett, D. A., and Bhattacharjee, A.: Introduction to Plasma Physics: With Space and Laboratory Applications, Cambridge University Press, 2005.
[2] F.F. Chen: Introduction to Plasma Physics and Controlled Fusion, vol.1: Plasma Physics, Springer, 1984.
[3] Články v odborných časopisech doporučené vedoucím práce.
Vedoucí:
RNDr. František Němec, Ph.D. - A243, tel. 2330
Anotace:
Magnetosférické čárové záření patří mezi doposud neobjasněné elektromagnetické jevy ve vnitřní magnetosféře Země. Jedná se o intenzivní emise na frekvencích několika kHz pozorované jak na povrchu Země, tak družicemi s nízkou drahou letu. Cílem práce je studium událostí tohoto typu s využitím dat družice DEMETER. Pochopení vlastností těchto emisí by mělo usnadnit identifikaci jejich zdrojového mechanismu. Téma může být dále rozvinuto v rámci magisterského studia. Podrobnější informace osobně.

Cíle bakalářské práce:
1. Seznámení se s družicí DEMETER, zvládnutí základní práce s daty.
2. Identifikace událostí magnetosférického čárového záření.
3. Systematická studie nalezených událostí.
4. Využití částicových měření na družici DEMETER a pozemní sítě magnetometrů.
Seznam odborné literatury:
[1] Gurnett, D. A., and Bhattacharjee, A.: Introduction to Plasma Physics: With Space and Laboratory Applications, Cambridge University Press, 2005.
[2] Manninen, J.: Some aspects of ELF-VLF emissions in geophysical research, Doctoral Thesis, Sodankyla Geophysical Observatory, University of Oulu, Finland, 2005.
[3] Články v odborných časopisech doporučené vedoucím práce.
Vedoucí:
Mgr. Martin Jeřáb - 418, tel. 2731
Konzultant:
RNDr. Ladislav Peksa, CSc. - A336, tel. 2310
Anotace:
V metrologii tlaku a vakua hraje významnou roli proces proudění plynu clonou. Hodnotu proudu lze určovat teoretickým výpočtem na základě geometrických rozměrů clony, v případě molekulárního režimu proudění s takovou přesností, že toho lze využít i v primární metrologii. Výpočet ve viskózním režimu tak přesné výsledky z fyzikálních důvodů poskytnout nemůže. Podmínka molekulárního proudění ovšem omezuje rozsah použitelných tlaků plynu vzhledem k charakteristickému rozměru clony a tím vlastně také měřitelných proudů. Řešením je paralelní řazení otvorů clon – tzv. multiclony, kde jednotlivé otvory jsou co nejmenší. Nejvýhodnějším fyzicky realizovatelným tvarem je tzv. NPL clona, též sférický kanál.
Cílem práce je navrhnout a ověřit technologii výroby malých kanálů přesných geometrických tvarů takovou, aby jí bylo možno použít k výrobě multiclon o řádově stovkách až tisících otvorech. Předpokládanou hlavní metodou je elektrochemické mikroobrábění. V rámci bakalářské práce se předpokládá získání funkčních vzorků. Ověření pak spočívá v porovnání výsledků získaných výpočtem na základě změřených či předpokládaných geometrických rozměrů s výsledky experimentálního proměření proudění kanálem.
Zásady pro vypracování:
1) Studium literatury zabývající se elektrochemickým mikroobráběním.
2) Návrh uspořádání pro elektrochemické mikroobrábění NPL clonek.
3) Ověření postupu výroby NPL clon.
Literatura:
[1] J. M. Lafferty: Foundations of Vacuum Science and Technology, J. Wiley & Sons, New York, 1998, ISBN 0-471-17593-5.
[2] J. F. O’Hanlon: A User’s Guide to Vacuum Technology, J. Wiley & Sons, Hoboken, New Jersey, 2003, ISBN 0-471-27052-0.
[3] H. W. Liepmann: Gaskinetics and gasdynamics of orifice flow, J. Fluid Mech., 1961, 10:65-79.
[4] D. Landolt et. al., Electrochemical micromachining, polishing and surface structuring of metals: fundamental aspects and new developments (2003) , Electrochimica acta 48, 3185-3201.
Další literatura po dohodě s vedoucím práce.
Vedoucí:
RNDr. Tomáš Gronych, CSc. - A337, tel. 2227, 2730
Anotace:
Ionizační vakuometry jsou v současnosti jedinými typy měrek, které umožňují měření velmi nízkých tlaků v oborech pod 10-6 Pa. Většina základních konstrukcí byla vyvinuta již v 60. letech, přesto se však stále objevují nové, zejména s cílem snížení dolní měřící hranice a/nebo zajištění vyšší stability měrek.
Cílem bakalářské práce bude vylepšení stávajícího měřícího systému pro napájení a sběr dat z ionizačního vakuometru. Ovládání měřícího systému bude realizováno v prostředí LabVIEW. Testy systému budou prováděny na vybrané měrce, která bude součástí unikátní vakuové aparatury s mezním tlakem v oboru extrémně vysokého vakua.
Zásady pro vypracování
Seznámení se s typy a funkcí ionizačních vakuometrů.
Návrh úprav stávajícího měřícího systému a jejich realizace.
Vývoj softwarového ovládání systému v prostředí LabVIEW.
Testy systému na vybrané měrce ionizačního vakuometru.
Seznam odborné literatury
K. Jousten (ed.): Handbook of vacuum technology, Wiley-VCH, Weinheim (2008).
Dokumentace k programovému prostředí LabVIEW.
Další literatura dle dohody s vedoucím práce.