Fotoelektronová spektroskopie v ultrafialové oblasti využívá podobně jako ostatní metody ke zjišťování informací o zkoumaném vzorku analýzu fotoelektronů emitovaných v důsledku interakce elektromagnetického záření s atomy vzorku. Jelikož je princip metody a experimentální uspořádání prakticky stejné jako u metody XPS , na jejíž stránce jsou základy fotoelektronové spektroskopie již popsány, uvedu zde pouze nejpodstatnějsí informace a zaměřím se spíše na rozdíly mezi metodami UPS a XPS.
Základním využívaným jevem je fotoelektrický jev. Zajímá nás především situace, kdy dopadající foton s dostatečnou energii excituje nějaký elektron a dojde k jeho emisi ze zkoumaného materiálu. Obvykle se pro účely popisu tohoto děje používá tzv. three-step model, kde předpokládáme, že emise probíhá takto:
Elektrony emitované do vakua sledujeme detektorem, kterým
změříme závislost intenzity (počtu) dopadajících
elektronů na hodnotě jejich kinetické energie Ekin, tj. naměříme energetické spektrum elektronů.
Naměřená kinetická energie emitovaného elektronu souvisí
s jeho vazebnou energií EBE
v pevné látce podle vztahu:
EBE = hν - Ek - Φ (1.1)
kde hν je energie fotonu a Φ je výstupní práce související zejména s překonáním povrchové bariéry. Viz také fotoemise na stránce metody XPS.
Pozn.: Při interakci fotonu s elektronem v pevné látce může dojít i k dalším, složitějším dějům, jako např. Augerova emise elektronu, které využívá metoda AES. Tyto děje jsou ale pro metodu UPS zanedbatelné (jedním z důvodů je skutečnost, že se podstatně projevují až při vyšších energiích primárních fotonů, význam mají např. v případě metody XPS).
Jako zdroje záření se často používá heliové
výbojky s energií fotonů 20,2 eV nebo nejlépe
synchrotronového záření o energii do 100 eV.
Těmto relativně malým energiím odpovídá
střední volná dráha emitovaných elektronů
srovnatelná s tloušťkou několika atomárních
vrstev, což tuto metodu činí silně povrchově citlivou. Většina
elektronů z hlubších oblastí totiž nevystoupí
do vakua díky interakci s atomy vzorku (viz také
informační hloubka
na stránce
metody SRPES).
Další vlastnost metody plynoucí z energie použitého záření spočívá v tom, že může dojít jen k excitaci elektronů z hladin blízkých Fermiho mezi, zejména z valenčního pásu. To metodu UPS odlišuje významně od XPS, kde díky použité energii řádu keV dochází k excitaci elektronů i z hlubších hladin.
Pozn.: Energetické spektrum které získáme metodou UPS vlastně můžeme získat také aplikací metody XPS. Důvod pro použití metody UPS je skutečnost, že při použití záření s nízkou energií jsou požadované elektrony s malou vazebnou energií emitovány do vakua s mnohem větší pravděpodobností. To umožní naměření energetického spektra v této oblasti mnohem přesněji než by bylo možné v případě XPS.
Metoda UPS je díky výše uvedeným vlastnostem významným nástrojem studia hustoty stavů ve valenčním pásu pevných látek. Tato informace je důležitá při studiu povrchových vlastností slitin kovů. Vzájemnou interakcí totiž může dojít ke změně hustoty povrchových stavů a změní se tak významně reaktivita povrchu, která nás zajímá např. z hlediska výzkumu katalyzátorů chemických reakcí.
Studiem hustoty stavů v oblasti blízko Fermiho meze je možné navíc také získat informace o atomech které adsorbovaly na povrch vzorku.
Metodu UPS můžeme modifikovat tak, že použijeme detektoru, který navíc dokáže rozlišit spin zachyceného elektronu. Tato metodu se označuje SPUPS (Spin Polarised Ultraviolet Photoelectron Spectroscopy) a využívá se zejména pro zkoumání povrchových vlastností magnetických materiálů.
Obr. 1.1: Typický příklad energetického spektra
naměřeného pomocí metody UPS (konkrétně jde o spektrum
monokrystalu Ni (111) v oblasti Fermiho meze)
Aparatura sestává ze zdroje záření, držáku vzorku a analyzátoru energie elektronů. To celé je třeba umístit do vysokého vakua (obvykle až 10-8 Pa), zejména aby nedocházelo k interakci emitovaných elektronů se zbytkovou atmosférou a aby se co nejvíce zachoval čistý povrch vzorku. Používání héliové výbojky jako zdroje záření však znamená zvýšení parciálního tlaku hélia v aparatuře až na 10-6Pa, neboť se používá přímého, diferenciálně čerpaného připojení výbojky k aparatuře, aby nedocházelo k pohlcování UV záření v případném materiálu oddělujícím systémy od sebe. Aby zároveň vznikající UV záření mělo dostatečnou intenzitu, je třeba udržovat tlak ve výbojce na hodnotě alespoň několika desítek Pa. Zvýšení parciálního tlaku hélia v aparatuře nicméně tolik nevadí, neboť hélium díky své inertnosti neadsorbuje na povrch vzorku. Je to však také jeden z důvodu, proč je výhodnější použít synchrotronového záření.
Detektor:
Energie emitovaných elektronů se nejčastěji
měří pomocí hemisférického
analyzátoru, který se zároveň také
používá při metodě XPS (viz také experimentální
uspořádání XPS). Aparatura je pak
Experimentální obvykle sestavena tak, že metoda UPS je
zkombinována s metodou XPS poopřípadě dalšími metodami.
Zdroj záření:
V malém laboratorním uspořádání se
musíme spokojit s použitím UV lampy, na naší katedře používáme
zdroje označeného He I s energií 20,2 eV.
Velmi výhodné je ovšem použít jako zdroje
synchrotronového záření, neboť lze jednak
dosáhnout větší přesnosti (odpadá problém
s přirozenou šířkou spektrální čáry)
a za druhé dokážeme zvolením vhodné energie
záření dosáhnout malého účinného
průřezu při interakce fotonu s elektrony na určitých energetických
hladinách atomů daného chemického prvku
(viz Cooperovo minimum
na stránce metody SRPES ).
Takto je možné u vzorku složeného z více druhů atomů
změřit parciální hustotu stavů (Partial DOS), což např.
má význam při studiu povrchových vlastností slitin kovů.
Metoda úhlově rozlišené fotoelektronové spektroskopie v ultrafialové oblasti vychází z metody UPS, rozšíření spočívá v tom, že měříme energetické spektrum emitovaných elektronů postupně pro jednotlivé elementy prostorového úhlu – viz obrázek 2.1 .
Obr. 2.1: K metodě úhlově rozlišené fotoelektronové
spektroskopie
Abychom z takto naměřené závislosti intenzity vyletujících fotoelektronů jako funkce jejich Ekin a emisních úhlů θ (polární) a φ (azimutální) mohli získat další informace, je třeba učinit několik předpokladů:
Obr. 2.2: Ke komponentám vlnového vektoru emitovaného
elektronu při průchodu přes rozhraní povrchu
(dochází k „lomu“ na rozhraní)
Díky zachování rovnoběžné složky vlnového vektoru při výstupu emitovaného elektronu (viz obr. 2.2) pak známe složku k|| jeho vlnového vektoru v pevné látce a tu můžeme navíc určit z naměřené kinetické energie za výše uvedených předpkoladů dle vztahu:
(2.1)
Aby bylo možné získané informace interpretovat, je třeba také navíc znát orientaci a strukturu vzorku.
Cílem metody je nejčastěji mapování pásové (též elektronické) struktury zkoumané krystalické látky. Tím rozumíme stanovení závislosti vazebné energie EBE na vlnovém vektoru elektronu k (tzv. disperzní závislost).
V principu rozlišujeme dva postupy (při konstantní energii dopadajících fotonů), jak lze dosáhnout určení disperzní závislosti (viz. obrázek 2.3):
Obrázek 2.3: Postupy stanovení disperzní
závislosti pomocí metody ARUPS
Na obrázcích 2.4 a 2.5 jsou příklady spekter naměřených pomocí metody arups.
Na obrázku 2.5 je navíc pro srovnání znázorněna teoretická předpověď pásové struktury.
Obr. 2.4: Příklad naměřeného spektra (sada EDC křivek) pro
krystal Ni(111). Měření bylo provedeno
pro θ z intervalu (-80 deg až 80 deg) při φ = 45 deg.
Obr. 5: Příklad disperzní závislosti ( pásové
struktury) ve slitině TiTe2 získané
pomocí ARUPS (vlevo) a odpovídající teoretická
předpověď (vpravo). Čerpáno ze zdroje [1].
Z důvodu uvedených výše u metody UPS je velmi vhodné užití synchrotronového záření jako zdroje excitujících fotonů také u metody ARUPS, žádoucí je zejména získání výsledku s mnohem větší přesností.
Realizace detekce pro různé úhly se provádí tak, že se buď natáčí vzorek nebo se pohybuje s detektorem fotoelektronů. V principu je lepší případ, kdy se pohybuje detektorem, ale protože je to technicky komplikované, volí se hlavně v případě menších zařízení spořádání s pohyblivým vzorkem.
Popis a fotky apratury pro ARUPS/UPS používané naší katedrou najdete na této stránce: Aparatura XPS/UPS/ISS
[1] W. Sattke, M. Hove : Solid-State Photoemission and Related Methods; Willey-Vch 2003
[Home][Metody][Aparatury] [Aktuální problémy][Prednášky] [Zajímavé odkazy][Rejstrík]