Základním požadavkem pro studium povrchů je potřeba velmi nízkých tlaků, a to především z důvodu minimální kontaminace studovaného povrchu molekulami zbytkové atmosféry za typickou dobu experimentu. Dalším důvodem je získání dostatečně velké střední volné dráhy pro sekundární částice, případně pro částice primárního svazku, detekované metodami povrchové analýzy. Nutné je dosažení tlaků přinejmenším v oboru velmi vysokého vakua (Ultra High Vacuum, UHV), tj. 10-7 až 10-9 Pa; to vede k přísným požadavkům na čistotu všech vakuových komponent, vysokou kvalitu použitých materiálů a dobrý výkon čerpací jednotky.
Dále jsou uvedeny niekteré s aparatur, které se nacházejí na naši katedře.
Copyright (c) 2004 KEVF. All rights reserved.