Ablace materiálů fokusovaným zářením XUV laseru.

Student: Michal Bittner
Školitel: RNDr. Jan Wild, CSc.
Konzultant: Ing. Libor Juha, CSc., Dr. Ing. B. Rus, RNDr. J. Krása, CSc., FzÚ AV ČR
Stav práce: obhájená

Abstrakt:
Budou popsány a simulovány různé přístupy k fokusaci svazku XUV laserů. Ty, které se jeví pro daný typ XUV laseru jako nejvhodnější, budou realizovány. Pozornost bude věnována komplexní charakterizaci fokusovaného svazku. K ablaci vybraných materiálů budou užity různé XUV lasery, aby bylo možno sledovat ablační charakteristiky materiálů v širokém rozsahu plošných hustot energie (fluencí) a intenzit XUV záření. Ablační procesy budou sledovány nejen vyšetřováním vyablaovaného kráteru po vyjmutí vzorku z interakční komory (profilometrie, AFM, mi-Ramanova spektroskopie, atp.) ale i v reálném čase metodami in-situ diagnostiky (reflexe optického laserového záření na XUV ozařovaném povrchu, registrace a charakterizace nabitých částic emitovaných ze vzorku, atp.). Ablační efekty indukované laserovým XUV zářením budou porovnány s těmi, způsobenými nekoherentním XUV zářením a zářením konvenčních (UV-Vis-IR) laserů.