Studium adsorpce a difuse kovů na površích Si pomocí STM

Student: Martin Setvín
Školitel: Doc. RNDr. Ivan Ošťádal, CSc.
Konzultant: Doc. RNDr. Pavel Sobotík, CSc., Mgr. Pavel Kocán, Ph.D.
Stav práce: obhájená

Abstrakt:

Zvládnutí řízené přípravy kovových nanostruktur na površích křemíku vyžaduje detailní znalosti o procesech adsorpce, difuse a nukleace – na atomární úrovni. Technika rastrovací tunelové mikroskopie (STM) umožňuje zobrazení povrchu s atomárním rozlišením. STM dovoluje i přímé sledování povrchových procesů a pokud je jejich rychlost menší než ta, s jakou je opakovaně zobrazován povrch, obrazová informace o procese je skutečně detailní. Změnou teploty povrchu je možno (v závislosti na adsorpčních energiích) měnit rychlost zkoumaných procesů a připravit vhodné experimentální podmínky pro jejich sledování v STM. Pro studium pohyblivosti deponovaných atomů mezi „mělkými“ adsorpčními pozicemi je potřeba teplotu vzorku snížit na dostatečnou úroveň. Použití techniky STM pro přímé pozorování a záznam povrchových procesů při různých teplotách dovoluje získat kromě informací o struktuře a morfologii i data pro stanovení jejich mikroskopických parametrů – adsorpčních energií, resp. vazebních energií a frekvenčních prefaktorů.

Cílem práce je studium adsorpčních pozic vybraných atomů kovu na površích Si(111)7×7 a Si(100)2×1 využitím STM měření za nízkých teplot a studium jejich mobility uvnitř půlcely rekonstrukce 7×7 a na anizotropním povrchu 2×1.

Předpokládané znalosti:
Dokončené VŠ studium fyziky se zaměřením na fyziku kondenzované fáze.