Studium diagnostických systémů pro plazmové zdroje určené pro depozice tenkých vrstev (s aplikací v plazmachemii)

Student: Petr Virostko
Školitel: Prof. RNDr. Milan Tichý, DrSc.
Konzultant: Mgr. Zdeněk Hubička, Ph.D., FzÚ AV ČR
Stav práce: obhájená

Abstrakt:

Zdroje plazmatu, které se využívají v plazmachemii mohou pracovat v širokém oboru tlaků. Pro zajištění reprodukovatelnosti plazmachemických technologií je třeba sledovat základní parametry plazmatu jako je koncentrace elektronů, teplota, případně rozdělovací funkce elektronů, přítomnost excitovaných částic apod.

Diagnostika plazmatu během konkrétního technologického procesu je komplikovaná vzhledem k přítomnosti chemicky aktivních částic, radikálů případně směsi plynů nutných pro tvorbu žádané vrstvy. Cílem práce bude proto studium aplikace diagnostiky založené na optické emisní spektroskopii, sondové a mikrovlnné diagnostiky na zdroje plazmatu určené pro konkrétní aplikace, tj. během konkrétního technologického procesu. Předpokládá se například zvládnutí diagnostiky chemicky aktivního plazmového kanálu při depozici oxidových tenkých vrstev na polymerní substráty.

Předpokládané znalosti

Základní znalosti o fyzice nízkoteplotního plazmatu a o diagnostice plazmatu (možno získat během prvního roku studia navštěvováním doporučených přednášek).