Student: Gabriel Vít
Vedoucí: Prof. RNDr. Rudolf Hrach, DrSc.
Stav práce: obhájená
Abstrakt:
Práce bude věnována studiu procesů probíhajících při interakci nabitých a neutrálních částic s různými energiemi s povrchy vnořených substrátů. Základní technikou studia bude stochastické i deterministické počítačové modelování na atomární úrovni v kombinaci s pokročilými metodami zpracování obrazu. Cílem práce bude porovnat výsledky získané spojitou a pulzní technologií přípravy vrstev.
Téma předpokládá samostatnou práci v programovacím jazyku Fortran 90/95 nebo C/C++.
Zásady pro vypracování:
1) Seznámení s problematikou.
2) Analýza fyzikálních a chemických procesů probíhajících při spojité i pulzní plazmatické a laserové depozici dvou- i třírozměrných struktur.
3) Vytvoření modelu zdroje nabitých i neutrálních částic pro depozici.
4) Studium procesů probíhajících při depozici částic na substrátu v závislosti na parametrech dopadajících částic.
5) Studium dalšího růstu vrstev a popis jejich morfologických charakteristik.
6) Diskutovat získané modelové výsledky ve vazbě na experimentální data a další výsledky z literatury.
Seznam odborné literatury:
R. W. Hockney, J. W. Eastwood: Computer simulation using particles, Taylor and Francis, New
York 1988.
R. Hrach: Počítačová fyzika I, II, skripta, Ústí nad Labem 2003.
R. Hrach, D. Novotný, V. Hrubý: Study of initial stages of thin film growth by means of computer simulation and image analysis: Advanced atomistic modelling, Vacuum 90 (2013), 121.
Další literatura po dohodě s vedoucím diplomové práce.