Student: Mojmír Jílek
Vedoucí: Prof. RNDr. Milan Tichý, DrSc.
Konzultant: Mgr. Zdeněk Hubička, Ph.D., FZÚ AV ČR
Stav práce: obhájená
Abstrakt:
Nový zdroj plazmatu s vysokým stupněm ionizace určený pro PVD depozice tenkých vrstev bude testován v různých konfiguracích. Plazma s vysokou hustotou v místě substrátu bude analyzováno pomocí sondové diagnostiky a pomocí emisní spektroskopie.
Zásady pro vypracování:
1. Rešerše literatury se zaměřením na sondovou a spektroskopickou diagnostiku plazmatu.
2. Seznámit se s konstrukcí a obsluhou aparatury včetně elektroniky pro sondová měření a softwarové podpory.
3. Spolupráce na vývoji a konstrukci Langmuirovy sondy s použitím nových materiálů.
4. Spolupráce na úpravě softwaru pro sběr a zpracování dat.
5. Provedení experimentů a vyhodnocení a interpretace experimentálních dat.
6. Vypracování písemné zprávy.
Seznam odborné literatury:
Speciální literatura, zejména časopisecká, bude zadána po dohodě s vedoucím diplomové práce.
Základní literatura:
1. F.F. Chen, Základy fyziky plazmatu.
2. J.A. Bittencourt, Fundamentals of Plasma Physics, third edition, Springer, 2004, ISBN 0-387-20975-1.
3. M.A. Liebermann, A.J. Lichtenberg, Principles of Plasma Discharges and Material Processing, John Wiley and Sons, 1994, ISBN 0-471-00577-0.
4. J. Reece Roth, Industrial Plasma Engineering, volume 1 and 2, Institute of Physics Publishing, 1995, ISBN 0-7503-0318-2.
5. A. Fridman, L. Kennedy, Plasma Physics and Engineering, Taylor and Francis, 2004, ISBN 1-56032-848-7.
6. J.D. Swift, M.J.R. Schwar, Electrical Probes for Plasma Diagnostics, Iliffe books, London, (1970).
7. P.M. Chung, L. Talbot, K.J. Touryan, Electrical Probes in Stationary and Flowing Plasmas, Theory and Application, Springer-Verlag, Berlin, Heidelberg, New York, (1975).
8. S. Pfau, M. Tichý, Langmuir probe diagnostics of low-temperature plasmas, in Low Temperature Plasma Physics, R. Hippler et al. Eds., Wiley-VCH, Berlin etc., 2001, ISBN 3-527-28887-2, pp. 131-172.
9. S. Svanberg, Atomic and Molecular Spectroscopy, second edition, Springer, 1992, ISBN 0-387-55243-X.