Studium interakce atomů thallia s povrchem křemíku pomocí řádkovací tunelové mikroskopie (STM)

Vedoucí: RNDr. Pavel Kocán, Ph.D.
Stav práce: volná

Anotace:

Thallium je nejtěžším prvkem IIIA skupiny periodické tabulky, což se projevuje na chemických vlastnostech Tl jako tzv. relativistický efekt inertního páru elektronů (inert pair effect). Díky tomuto efektu se Tl vyskytuje nejen trivalentní jako ostatní kovy IIIA skupiny, ale také v monovalentní formě.

Je známo, že zahřátím povrchu s vrstvou Tl vzniká rekonstrukce 1x1, ve které se pravděpodobně Tl vyskytuje v monovalentní formě. Po desorpci Tl z 1x1 povrchu vzniká řada metastabilních rekonstrukcí čistého povrchu Si. Cílem vypsané práce je využití řádkovacího tunelového mikroskopu ke studiu interakce Tl s povrchem Si(111) na atomární úrovni a studium metastabilních rekonstrukcí vznikajících po desorpci thallia. Výsledky práce budou přímo publikovatelné v odborném tisku.

Zásady pro vypracování
1) Seznámení se s metodou řádkovací tunelové mikroskopie
2) Pozorování změn povrchové struktury při ohřevu vzorku
3) Příprava rekonstrukce Si(111)1×1-Tl
4) Nalezení teploty, při které Tl desorbuje z povrchu, a pozorování změn povrchové struktury během desorpce

Seznam odborné literatury
[1] Eckertová L.: Physics of Thin Films, Plenum Press, NY 1986.
[2] Bai C.: Scanning Tunneling Microscopy and its Application, Springer Series in Surf.Sci.32, Berlin-Heidelberg, New York 1992.
[3] Ch.Kittel - Úvod do FPL, Academia 1985.
[4] Články v odborných časopisech podle doporučení vedoucího práce.


Povrch Si(111) s množstvím atomárně rozlišených struktur pozorovaných po desorpci thallia pomocí řádkovacího tunelového mikroskopu. Rozměr 40x10 nm2.